Hellma Materials和CVD Ceramics是高品質(zhì)晶體和陶瓷光學(xué)材料的領(lǐng)先制造商，為各行各業(yè)提供服務(wù)。其中包括微光刻、光學(xué)、激光技術(shù)和輻射檢測。憑借長期的技術(shù)專長和對客戶需求的高度關(guān)注，我們產(chǎn)品的認可和始終如一的質(zhì)量使我們能夠成為越來越多的滿意客戶的可靠供應(yīng)商。
氟化鈣晶體
閃爍晶體
氟化晶體
CVD 硫@化鋅Cleartran®
激光晶體
CVD硒化@鋅
氟化鈣晶體
用于UV/VIS/IR應(yīng)用的光學(xué)材料
多年來，Hellma Materials CaF2 一直被用作半導(dǎo)體生產(chǎn)微光刻的光學(xué)關(guān)鍵材料。CaF2 被確立為投影和照明光學(xué)中準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)材料。CaF2 獨特的光學(xué)特性使各種高級應(yīng)用成為可能。
應(yīng)用
由于其卓越的光學(xué)質(zhì)量和在紫外、可見分光光度計和紅外光譜范圍內(nèi)的出色透射率，Hellma Materials CaF2 可用于多種應(yīng)用：
紅外光學(xué)器件
用于天文儀器的光學(xué)元件
天基光學(xué)器件
顯微鏡光學(xué)元件
光譜光學(xué)
紫外光學(xué)
激光窗口
準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件
顯微光刻光學(xué)器件
優(yōu)勢
Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有獨特的光學(xué)特性：
從深紫外到紅外的高寬帶透射率（130nm 至 8μm）
低折射率 （nd = 1.43384）
低光譜色散 （vd = 95.23）
準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性
合格的高能粒子和輻射耐受性
直徑可達 420mm
客服熱線：
