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德國Hellma氟化鈣晶體材料CaF2的光學特性

    

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品牌Hellma 有效期至長期有效 最后更新2023-05-19 14:09
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德國Hellma氟化鈣晶體材料CaF2的光學特性

 德國Hellma氟化鈣晶體材料CaF2的光學特性

Hellma Materials CaF2多年來一直被用作半導體生產(chǎn)微光刻的光學關鍵材料。
CaF2 是投影和照明光學中準分子激光光學器件的行業(yè)標準材料。CaF2 獨特的光學特性可實現(xiàn)各種高級應用。
 
技術優(yōu)勢：
Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有獨*的光學特性：
從深紫外到紅外（130nm至8μm）的高寬帶透射率
低折射率 （nd = 1.43384）
低光譜色散 （vd = 95.23）
曹雪莉
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準分子激光光學器件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性
對高能顆粒和輻射的合格抵抗力
直徑可達420mm
沈陽漢達森YYDS曹 
 
應用領域：
紅外光學元件
用于天文儀器的光學元件
天基光學器件
顯微鏡光學元件
光譜光學
紫外光學
激光窗口
準分子激光光學
微光刻光學

德國Hellma氟化鈣晶體材料CaF2的光學特性
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