Bronkhorst質(zhì)量流量計F-132MI

最小流量范圍：0.3-15 ln/min；

最大流量范圍：5-250 ln/min；

壓力：400bar；

 

半導(dǎo)體和LED照明產(chǎn)業(yè)：

最初，熱式質(zhì)量流量計和控制器是在1970年代為半導(dǎo)體制造過程中的氣相沉積而開發(fā)的。由于市場需求以及在氣體、液體和蒸汽輸送方面引進(jìn)新的更好產(chǎn)品的需要，Bronkhorst稱為半導(dǎo)體、平板顯示器和LED行業(yè)的主要供應(yīng)商。針對化學(xué)氣相沉積（CVD）、平板顯示器噴涂（FPD）和原子層沉積（ALD）工藝，Bronkhorst可為直接液體注入系統(tǒng)提供金屬密封流量儀表。

 

Bronkhorst部分型號示例：

Bronkhorst F-231M-ABD-33-V

Bronkhorst F-201EV-ABD-22-V HI-TEC

Bronkhorst F-206AI-AAD-55-V

Bronkhorst F-203AV-1M0-AAD-55-V

Bronkhorst F-201CV-20K-BAD-00-V HI-TEC

Bronkhorst F-201CB-20K-AAD-00-Z

Bronkhorst F-203AV-M50-AGD-55-V

Bronkhorst F-203AI-1M0-AGD-44-V

Bronkhorst F-110C-002-AAD-11-V

Bronkhorst F-203AI-M50-AGD-44-V

Bronkhorst F-201CV-1K0-RGD-88-E

Bronkhorst F-203AI-1M0-AGD-55-V

應(yīng)用案例：

切割（激光）前在晶片上沉積保護(hù)層

金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)

原子層沉積(ALD)

超臨界流體定量給料和控制（如超臨界二氧化碳清洗）

平板顯示器(FPD)噴涂

 

在FOUP卸載模塊應(yīng)用質(zhì)量流量控制器進(jìn)行氮氣吹掃：

目前先進(jìn)的技術(shù)要求在生產(chǎn)過程中對氣體進(jìn)行更好的流量控制，以提高產(chǎn)量并降低這些氣體的使用成本。

超臨界氣體測量與控制：

當(dāng)流體例如二氧化碳(CO2)在氣液兩相臨界區(qū)域處，難以測量它們的流量。建議使用科里奧利質(zhì)量流量計。