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MVS 1000
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MVS 1000
描述
MVS 1000 火花發(fā)射光譜儀可以對所有常見金屬材料進行多功能、靈活和快速的材料分析。MVS 1000 以極具吸引力的成本使用最現(xiàn)代的檢測器技術(shù)。
分析能力包括短波元素的精確分析，如鋼或鑄鐵中的碳、磷、硫和鋁中的磷。
主要特征
完整而靈活地覆蓋所有常見的分析任務
簡單的擴展選項
最新、專門開發(fā)的探測器技術(shù)
在檢出限、精密度、穩(wěn)定性方面表現(xiàn)良好
堅固的結(jié)構(gòu)，適用于惡劣環(huán)境
最廣泛的多矩陣應用
緊湊型光譜儀
技術(shù)參數(shù)
Paschen-Runge 設置中的光譜儀
羅蘭圓直徑 500 毫米
光學和讀出系統(tǒng)溫度穩(wěn)定在 35 °C ± 0.1 °C，以獲得最佳的長期穩(wěn)定性
計算機控制的自動分析
針對波長范圍優(yōu)化的傳感器線
沒有傳感器線路涂層的高紫外線靈敏度
輕金屬真空室
免維護旋片泵
真空泵集成在外殼中
防止油回火和油擴散
采用 Stromtor 技術(shù)的門控數(shù)字源 (GDS)
免維護
射頻高達 1 kHz
單極中壓放電
預點火和積分參數(shù)可以單獨參數(shù)化
射頻和放電特性可自由參數(shù)化
點火電壓 20kV
230V；50/60赫茲；1.5kVA
待機模式下 200 W
GS 1000-II
描述
GS 1000-II 是 OBLF 系列中最小的成員，是適用于所有標準應用的單矩陣火花發(fā)射光譜儀。由于其緊湊堅固的結(jié)構(gòu)以及簡單的操作，它非常適用于鑄造廠等生產(chǎn)環(huán)境，
也適用于進貨和材料控制。為了保證不受光譜儀周圍外部條件的影響，檢測器（光電倍增管）和集成系統(tǒng)安裝在溫度穩(wěn)定的真空光學器件中。分析能力涵蓋短波元素的精確分析，如鋼或鑄鐵中的碳、磷、硫和氮以及鋁中的磷。
主要特征
緊湊型光譜儀
GDS III 建議
真空光學
自清潔火花架
可選配“mini-GISS”
可選雙電極系統(tǒng)
技術(shù)參數(shù)
Paschen-Runge 安裝中的光譜儀
羅蘭圓直徑 500 毫米
波長范圍 140-770 nm
光學元件和讀出電子元件的溫度穩(wěn)定在 ± 0.1°C，具有出色的長期穩(wěn)定性
自動計算機控制的輪廓
昏迷矯正狹縫
根據(jù)各自波長選擇 PMT 類型
抗震性
帶集成多火花系統(tǒng)的門控數(shù)字源 (GDS)
免維護
火花頻率高達 1 kHz
單極中壓放電
預點火和積分可選的單獨參數(shù)
可由軟件選擇的可變勵磁參數(shù)和放電特性
點火電壓 20kV
寬 60 厘米
身高 110 厘米
深度 108 厘米
重量約300公斤
電源供應
230V；50/60赫茲；1,5 kVA
待機模式下 200 W
環(huán)境條件
工作溫度 10 – 40 ºC
OBLF VeOS
描述
OBLF 的 VeOS 火花發(fā)射光譜儀采用基于為發(fā)射光譜專門開發(fā)的半導體探測器的尖端探測器技術(shù)，能夠?qū)λ谐Ｒ娊饘俨牧线M行多功能、靈活和快速的分析。分析光譜還包括對短波長元素（如氮或低碳）的精確分析。
主要特征
完整而靈活地包含所有分析任務
易于擴展的功能
最新、專門開發(fā)的探測器技術(shù)
在檢出限、精密度、穩(wěn)定性方面表現(xiàn)出色
用于重型環(huán)境的堅固設計
最全面的多矩陣應用選項，對分析元素的選擇沒有任何限制
準確檢測 N 和痕量碳 (ULC)
技術(shù)參數(shù)
Paschen-Runge 安裝中的光譜儀
羅蘭圓直徑 500 毫米
波長范圍 130-700 nm
光學元件和讀出電子元件的溫度穩(wěn)定在 ± 0.1°C，具有出色的長期穩(wěn)定性
冷卻光學元件和讀出系統(tǒng)
自動計算機控制的輪廓
每個波長區(qū)域的優(yōu)化檢測器線
沒有傳感器涂層的高紫外線靈敏度
抗震性
帶集成多火花系統(tǒng)的門控數(shù)字源 (GDS)
免維護
火花頻率高達 1 kHz
單極中壓放電
預點火和積分可選的單獨參數(shù)
可由軟件選擇的可變勵磁參數(shù)和放電特性
點火電壓 20kV
寬 74 厘米
身高 134 厘米
深度 115 厘米
重量約300公斤
電源供應
230V；50/60赫茲；1,5 kVA
待機模式下 300 W
環(huán)境條件
工作溫度 10 – 40 ºC
常用型號
OBLF MVS 1000
OBLF GS 1000-II
OBLF VeOS
OBLF QSN750-II
OBLF QSG750-II
OBLF 雙電極系統(tǒng)
